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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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- 產(chǎn)品簡介
- 產(chǎn)品性能參數(shù)
- 適用范圍
- 服務(wù)網(wǎng)點
產(chǎn)品簡介:
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的設(shè)備。
產(chǎn)品型號 |
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 |
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安裝條件 |
本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 |
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主要特點 |
1、配置兩個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導電類材料的 濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。 3、體積小,操作簡便。 |
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技術(shù)參數(shù) |
1、電源電壓:220V 50Hz 2、功率:<560W(不含真空泵) 3、真空度:< ?E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達到?E-5mbar) 4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量) 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、直流濺射功率:500W(可選) 9、射頻濺射功率:300W/500W(可選) 10、載樣臺:?140mm 11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM |
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產(chǎn)品規(guī)格 |
主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg |
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標準配件 |
1 |
直流電源控制系統(tǒng) |
1套 |
2 |
射頻電源控制系統(tǒng) |
1套 |
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3 |
膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) |
1套 |
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4 |
分子泵(德國進口) |
1臺 |
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5 |
冷水機 |
1臺 |
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6 |
冷卻水管(?6mm) |
4根 |
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可選配件 |
金、銦、銀、白金等各種靶材 |