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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

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產(chǎn)品簡介:

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的設(shè)備。

產(chǎn)品型號

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1、配置兩個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導電類材料的

  濺射鍍膜。

2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

技術(shù)參數(shù)

1、電源電壓:220V   50Hz

2、功率:<560W(不含真空泵)

3、真空度:< ?E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達到?E-5mbar)

4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)

5、靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量)

6、靶槍冷卻方式:水冷

7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率:500W(可選)

9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

10、載樣臺:?140mm

11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體

13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

1套

2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1套

4

分子泵(德國進口)

1臺

5

冷水機

1臺

6

冷卻水管(?6mm)

4根

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材